－新ナノプロセス－

ミスト制御技術

　本研究所では、マイクロサイズの液滴を制御する技術の開発を進めている。この研究は、京都大学大学院藤田研究室で開発を進めてきた、大気圧下で酸化物薄膜を作製する為の手法「ミスト化学気相成長(CVD)法」による開発を進めてきた現在では以下の研究を進めている。