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装置利用に関する問い合わせについて

− 技術の創出　−

2025年4月からTMEIC社製・研究用ミスト塗布/ミストCVDシステムが弊学に導入されました。

仕様：

  • 基板サイズ　： 最大 230 mm 角
  • 成膜最高温度： 最大 450 ℃
  • 成膜方式　　： スキャン式、リニア式
  • 霧化器　　　： 2台
  • 混合器　　　： 1台
  • 耐薬性　　　： 酸/アルカリ系未対応 (要相談)
  • 粘度　　　　： 3.0 cP以下
開発した塗布剤量の基材への塗布、基材への機能膜の合成など、実用途への試験実験として利用していただけます。詳しくは、以下内容を出来る範囲で記載していただき連絡先まで問い合わせていただければと思います。

  • 用途　　　　：
  • 薬品　　　　：
  • 成膜温度　　：
  • 利用希望日程：
高知工科大学 総合研究所 ミスト成膜先端技術研究室 室長 川原村 敏幸
〒782-8502 高知県香美市土佐山田町宮ノ口185
kawaharamura.toshiyuki@kochi-tech.ac.jp

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