国内学会発表リスト　　　　(計61報; Oral 計42報, Poster 計19報, + 未集計有り)

- 2013年度 -

「大気開放系ミスト化学気相成長(CVD)法を用いて作製したワイドバンドギャップ酸化物薄膜トランジスタ(TFT)」
川原村敏幸, 介田忠宏, 王大鵬, 古田守
第61回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学, 2014年3月17-20日), シンポジウム, 19p-E10-8 (Oral, 19日 16:30-16:45)

「オゾン支援を用いたミストCVD法による酸化アルミニウム(AlOx)パッシベーョン膜の特性」
内田貴之, 川原村敏幸, 柴山健次, 藤田静雄, 平松孝浩, 織田容征
第61回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学, 2014年3月17-20日), 16.3 シリコン系太陽電池, 18a-E12-5 (Oral, 18日 10:00-10:15)

「ミストCVD法によるSnOx薄膜の作製とその特性」
内田貴之, 川原村敏幸, 藤田静雄
第61回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学, 2014年3月17-20日), 合同セッションK, 17p-E10-5 (Oral, 17日 14:15-14:30)

「オゾン支援ミストCVD法による高移動度(＞10 cm2/Vs)IGZO TFT ～TFT特性のチャネル組成依存性～」
介田忠宏, 川原村敏幸, 古田守
薄膜材料デバイス研究会第10回研究集会 (龍谷大学アバンティ響都ホール & マリアージュ･グランデ, 2013年10月31-11月2日), 01O11 (Oral, 1日16:20-16:40, Poster, 1日18:20-20:00)

「大気圧ミストCVD法で作製した酸化アルミニウム(AlOx)薄膜の太陽電池用パッシベーション応用」
内田貴之, 川原村敏幸, 柴山健次, 藤田静雄, 平松孝浩, 織田容征
第74回応用物理学会秋季学術講演会 (同志社大学, 2013年9月16-20日), 16.3, 19a-A4-1 (Oral, 19日 09:00-09:15)

- 2012年度 -

「大気圧ミストCVDを用いて作製したIGZO TFTの高移動度化」
川原村敏幸, 内田貴之, 王大鵬, 眞田克, 古田守
第60回応用物理学会春季学術講演会 (神奈川工科大学, 2013年3月27-30日), 合同セッションK, 29p-G19-08 (Oral, 29日 15:45-16:00)

「ミストCVD法によるIGZO薄膜の作製とその特性」
内田貴之, 川原村敏幸, 古田守, 眞田克
第60回応用物理学会春季学術講演会 (神奈川工科大学, 2013年3月27-30日), 合同セッションK, 29p-G19-07 (Oral, 29日 15:30-15:45)

「非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性」
川原村敏幸, 内田貴之, 王大鵬, 眞田克, 古田守
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会(2013年1月24, 25日), P.19 (Oral, 25日10:10-10:08, Poster, 25日13:30-15:00)

「酸化物半導体のための、ミストCVD法によるAlOxゲート酸化膜の評価」
内田貴之, 川原村敏幸, 古田守, 眞田克
第32回LSIテスティングシンポジウム (千里ライフサイエンスセンター, 2012年11月7-9日), 30 (Poster, 8日13:30-14:30)

「誘電泳動集積法による均一で高配向な単層カーボンナノチューブチャネルを用いた薄膜トランジスタ (Thin-Film Transistors Using Uniform and Well-Aligned Dielectrophoretic Assembly of Single-Walled Carbon Nanotubes Channels)」
戸田達也, 川原村敏幸, 古沢浩, 古田守
薄膜材料デバイス研究会第9回研究集会 (なら100年会館, 2012年11月2,3日), 3O01 (Oral, 3日09:55-10:15, Poster, 3日13:00-14:50) pp.142-145

「ミストCVD 法によるAlOx 薄膜の作成とその特性」
内田貴之, 川原村敏幸, 古田守, 眞田克
平成24年度電気関係学会四国支部連合大会 (四国電力(株)　総合研修所, 2012年9月29日), 材料(II), 11-12 (Oral, 29日11:00-11:10)

「ミストCVD法によるAlOx薄膜の作製とその特性」
内田貴之, 川原村敏幸, 古田守, 眞田克
第73回応用物理学会学術講演会 (愛媛大学, 2012年9月11-14日), 絶縁膜技術, 12a-F4-6 (Oral, 12日 10:15-10:30)

「非真空ミストCVD法で作製したIGZO/AlOx酸化物TFTの電気特性, (Electrical properties of oxide TFT with an IGZO/AlOx stack grown by non-vacuum mist chemical vapour deposition)」
川原村敏幸, 王大鵬, 古田守
第31回電子材料シンポジウム (ラフォーレ修繕寺, 2012年7月11-13日), Th2-7 (12日, Short Pre., 13:45-13:48, Poster, 16:15-18:50)

- 2011年度 -

「ミストCVD法によるIGZO TFTの作製」
川原村敏幸, 王大鵬, 古田守
第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日), 合同セッションK, 17p-E4-12 (Oral, 17日 16:30-16:45)

「誘電泳動法による半導体CNT薄膜トランジスタの作製」
戸田達也, 古沢浩,古田守, 川原村敏幸
第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日), 17.4, 18a-B2-8 (Oral, 18日 11:00-11:15)

「酸化亜鉛ナノ構造成長対する基板の影響」
李朝陽, 王大鵬, 川原村敏幸, 李澤明, 古田守
第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日), 9.3, 16p-DP3-5 (Poster, 16日 15:30-17:30)

「ミストCVD法によるIGZO TFTの作製」
川原村敏幸, 王大鵬, 鄧太江, 古田守
薄膜材料デバイス研究会第8回研究集会 (龍谷大学アバンティ響都ホール＆マリアージュ･グランデ, 2011年11月4,5日), 4R02 (Oral, 4日20:00-20:20(ランプセッション), Poster, 5日13:00-15:20)

　　└─> 　──> ベストペーパアワード受賞: 賞状

- 2010年度 -

「ミスト法を用いた薄膜成長に関する反応メカニズムの解析 1」
川原村敏幸, 織田容征, 白幡孝洋,吉田章男, 藤田静雄, 平尾孝
第58回応用物理学関係連合講演会 (神奈川工大, 2011年3月24-27日), 合同セッションK, 25a-BS-30 (Short Pre., 25日 11:40-11:45, Poster, 25日 15:30-17:30)

　　└─> 東日本大震災のため中止
「ZnO薄膜を還元雰囲気下で熱処理した時の表面ナノ構造及びPL特性の時間依存」
王大鵬, 李朝陽, 川原村敏幸, 古田守, 平尾孝, 成沢忠
第58回応用物理学関係連合講演会 (神奈川工大, 2011年3月24-27日), 合同セッションK, 25a-BS-8 (Short Pre., 25日 9:40-9:45, Poster, 25日 15:30-17:30)

　　└─> 東日本大震災のため中止
「ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製～大気圧下、低温成長への挑戦～」
川原村敏幸, 織田容征, 白幡孝洋, 井川拓人, 伊藤大師, 吉田章男, 藤田静雄, 平尾孝
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 (2011年1月28-29日), P.12 (Oral, 28日13:00-15:06, Poster, 28日15:15-16:45)

　　└─>
「ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体～スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て～」
王大鵬, 川原村敏幸, 李朝陽, 平尾孝
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 (2011年1月28-29日), P.01 (Oral, 28日13:00-15:06, Poster, 28日15:15-16:45)

　　└─>
「カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用」
古田寛, 川原村敏幸, 古田守, 松田時宜, 李朝陽, 平尾孝
発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 (2011年1月28-29日), P.15 (Oral, 29日09:00-11:50, Poster, 29日13:00-14:30)

「ZnO薄膜蛍光体の形成とその発光中心導入過程」
李朝陽、松田時宜*、川原村敏幸、W. Dapeng、古田寛、古田守、一ノ宮敬治、中西洋一郎、平尾孝
薄膜材料デバイス研究会第7回研究集会 (なら100年会館, 2010年11月5-6日), 6O04 (Oral, 6日11:15-11:35, Poster, 12:55-14:55) pp.115-118

　　└─> ベストペーパアワード受賞: 賞状
「ミスト法における局所反応場でのミスト液滴の挙動」
川原村敏幸，平尾孝
第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大, 2010年9月14-17日), 合同セッションK, 15p-ZJ-12 (Oral, 15日16:00-16:15)

「還元雰囲気熱処理を施した酸化亜鉛薄膜の膜厚と構造及び光学特性の関係」
王大鵬, 李朝陽, 川原村敏幸, 松田時宜, 古田守, 平尾孝, 成沢忠
第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大, 2010年9月14-17日), 合同セッションK, 17p-ZJ-6 (Oral, 17日14:15-14:30)

- 2009年度 -

「ミスト法を用いた新規エッチング手法の開発」
川原村敏幸，平松孝浩, 平尾孝
第57回応用物理学関係連合講演会 (東海大, 2010年3月17-20日), 合同セッションK: ワイドギャップ酸化物半導体材料･デバイス, 19a-TM-9 (Oral, 19日11:00-11:15)

「スパッタリング法で成膜したZnO薄膜の光学特性とTFT応用」
鎌田雄大，藤田静雄，川原村敏幸，平松孝浩，松田時宜，古田　守，平尾孝
第57回応用物理学関係連合講演会 (東海大, 2010年3月17-20日), 合同セッションK: ワイドギャップ酸化物半導体材料･デバイス, 19a-TM-3 (Oral, 19日9:30-9:45)

「電子材料応用を目的とした基板成長CNTのXRD／Raman構造解析」
古田寛, 川原村敏幸, 川端克昌, 古田守, 平尾孝
第57回応用物理学関係連合講演会 (東海大, 2010年3月17-20日), 17.2: 構造制御･プロセス, 18p-TD-14 (Oral, 18日 17:00-17:15)

「ミスト技術の応用　－薄膜作製技術への挑戦」
川原村敏幸
第50回CVD研究会 (名古屋大学環境総合館レクチャーホール, 名古屋, 2009年12月10日) (Oral, 10日14:00-14:30)

「ZnO系薄膜蛍光体のプラズマ処理による発光中心の活性化及び積層薄膜蛍光体への応用」
松田時宜, 李朝陽, 古田寛, 川原村敏幸
双葉電子記念財団第16回自然科学研究助成成果発表会, (プラザヘイアン茂原, 千葉, 2010年7月2日) (Oral, 2日 **:**-**:**)

「ZnO薄膜蛍光体の作製及び低温における熱処理効果」
李朝陽, 松田時宜, 川原村敏幸, 古田寛, 平松孝浩, 古田守, 平尾孝, 中西洋一郎, 一ノ宮敬治
第329回蛍光体同学会講演会, (化学会館ホール, 東京, 2009年9月18日) (Oral, 18日 14:00-14:30) pp. 7-13

「カーボンナノチューブの応用開発」
古田寛, 川原村敏幸, 川端克昌, 古田守,平尾孝
日本化学会中国四国支部産学連携化学フォーラム (高知大, 2009年8月29日) (Poster, 29日14:00～18:00)

「マグネトロンスパッタリング法よるZnO:Zn薄膜蛍光体作製及びフォトルミネッセンスに対する低温で熱処理効果」
李朝陽, 松田時宜, 川原村敏幸, 古田寛, 平松孝浩, 古田守, 平尾孝
第56回応用物理学関係連合講演会 (筑波大, 2009年3月30日-4月2日), 合同セッションK, 30a-ZK-9 (Oral, 3月30日11:00-11:15)

「溶液系金属触媒を用いたカーボンナノチューブの成長」
川端克昌, 古田寛, 川原村敏幸, 古田守, 平尾孝
第56回応用物理学関係連合講演会 (筑波大, 2009年3月30日-4月2日), 合同セッションF, 2a-TA-5 (Oral, 4月2日10:00-10:15)

- 2008年度 -

「ガラス基板上直接形成パターン化CNTエミッタ」
古田寛, 川原村敏幸, 古田守, 平尾孝
第69回応用物理学会学術講演会 (中部大, 2008年9月2-5日), 合同セッションF, 4p-ZS-15 (Oral, 4日17:45-18:00)

「長尺CNTs成長における触媒効果」
川原村敏幸, 古田寛, 川端克昌, 古田守, 八田章光, 平尾孝
第69回応用物理学会学術講演会 (中部大, 2008年9月2-5日), 合同セッションF, 5a-ZR-10 (Oral, 5日11:30-11:45)

「Fine Channel Mist CVD 法によるZnO 薄膜の成長メカニズム」
川原村敏幸，藤田静雄
第55回応用物理学関係連合講演会 (日大船橋キャンパス, 2008年3月27-30日), 合同セッションK, 27p-ZJ-6 (Oral, 27日 14:45-15:00)

「ミストCVD 法によるsapphire 基板上α-Ga2O3 薄膜の成長」
篠原大輔, 西中浩之, 大島孝仁, 騎馬啓嗣, 鎌田雄大, 川原村敏幸, 藤田静雄
第55回応用物理学関係連合講演会 (日大船橋キャンパス, 2008年3月27-30日), 6.3, 28a-W-2 (Oral, 28日 9:45-10:00)

- 2007年度 -

「Fine Channel Mist CVD法による単結晶ZnO薄膜の作製(2)」
川原村敏幸, 西中浩之, 藤田静雄
第68回応用物理学会学術講演会 (北工大, 2007年9月4-8日), 合同セッションK, 7a-ZQ-1 (Oral, 7日9:00-9:15, Poster, 7日13:00-15:00) －講演奨励賞受賞記念講演－

「リニアソース方式超音波噴霧CVD法による低温成長ZnO薄膜の作製」
西中浩之, 川原村敏幸, 藤田静雄
第68回応用物理学会学術講演会 (北工大, 2007年9月4-8日), 合同セッションK, 7a-ZQ-2 (Short Pre., 7日9:15-9:20, Poster, 7日13:00-15:00)

「FCM-CVD法によるサファイア基板上への酸化亜鉛薄膜のエピタキシャル成長 (Epitaxial growth of ZnO films on sapphire by fine channel mist CVD method)」
Toshiyuki Kawaharamura, Hiroyuki Nishinaka, Yudai Kamada, and Shizuo Fujita
第26回電子材料シンポジウム, 26th Electronic Materials Symposium (EMS-26) (ラフォーレ琵琶湖, 守山, 2007年7月4-6日), F5 (5日, Short Pre., 11:14-11:17, Poster, 11:35-13:00)

「Fine Channel Mist CVD法による単結晶ZnO薄膜の作製」
川原村敏幸, 西中浩之, 増田善男, 藤田静雄
第54回応用物理学関係連合講演会 (青山学院大学相模原キャンパス, 2007年3月27-30日), 合同セッションK, 28a-ZN-6 (Oral, 28日 11:15-11:30)

「金触媒を用いた超音波噴霧CVD法によるZnOナノ構造の成長」
西中浩之, 川原村敏幸, 藤田静雄
第54回応用物理学関係連合講演会(青山学院大学相模原キャンパス, 2007年3月27-30日), 合同セッションK, 27a-ZN-4 (Oral, 27日 10:15-10:30)

- 2006年度 -

「ファインチャネルミストCVD法によるサファイア基板上ZnO薄膜の作製」
川原村敏幸, 西中浩之, 亀谷圭介, 増田善男, 藤田静雄
第67回応用物理学会学術講演会 (立命館大学びわこ･くさつキャンパス, 2006年8月29-9月1日), 合同セッションK, 30p-ZE-5 (Oral, 8月30日14:30-14:45)

「リニアソース方式超音波噴霧CVD法によるGaドープZnO膜の作製」
西中浩之, 川原村敏幸, 鎌田雄大, 呂建国, 増田善男, 藤田静雄
第67回応用物理学会学術講演会 (立命館大学びわこ･くさつキャンパス, 2006年8月29-9月1日), 合同セッションK, 30p-ZE-6 (Oral, 8月30日14:45-15:00)

「Mist-CVD法による酸化亜鉛薄膜の作製 (“Fabrication of ZnO thin films by mist-CVD method”)」
T. Kawaharamura, H. Nishinaka, K. Kametani, Y. Masuda, and S. Fujita
第25回電子材料シンポジウム (EMS25) (ホテルサンバレー富士見, 伊豆の国, 2006年7月5-7日), H3 (6日, Short Pre., 16:53-16:56, Poster, 17:55-19:25)

「ミストCVD法により作製されたZnMgO薄膜の特性, (Properties of ZnMgO films deposited by mist-CVD technique)」
Y. Kamada, T. Kawaharamura, H. Nishinaka, and S. Fujita
第25回電子材料シンポジウム (EMS25) (ホテルサンバレー富士見, 伊豆の国, 2006年7月5-7日), H4 (6日, Short Pre., 16:56-16:59, Poster, 17:55-19:25)

「ミストCVD法による各種金属酸化物薄膜の作製」
川原村敏幸, 西中浩之, 須磨隆富, 谷垣昌敬,藤田静雄
第53回応用物理学関係連合講演会 (武蔵工業大学世田谷キャンパス, 2006年3月22-26日), 薄膜新材料, 22a-R-5 (Oral, 22日 10:30-10:45)

「ファインチャネルミストCVD法によるZnO透明薄膜の作製(2)」
川原村敏幸, 西中浩之, 亀谷圭介, 増田善男, 藤田静雄
第53回応用物理学関係連合講演会 (武蔵工業大学世田谷キャンパス, 2006年3月22-26日), 合同セッションK, 25p-ZP-1 (Oral, 25日 13:00-13:15)

「ミストCVD法によるZn1-xMgxO薄膜の作製」
鎌田雄大, 川原村敏幸, 西中浩之, 谷垣昌敬, 藤田静雄
第53回応用物理学関係連合講演会 (武蔵工業大学世田谷キャンパス, 2006年3月22-26日), 合同セッションK, 25p-ZP-2 (Oral, 25日 13:15-13:30)

- 2005年度 -

「ファインチャネルミストCVD法によるZnO透明薄膜の作製」
川原村敏幸, 西中浩之, 亀谷圭介, 増田善男, 谷垣昌敬, 藤田静雄
第66回応用物理学会学術講演会 (徳島大学, 2005年9月7-9月11日), 合同セッションK, 8p-G-8 (Oral, 8日15:15-15:30)

「Fabrication and properties of ZnO thin films prepared by micro channel mist CVD」
T. Kawaharamura, H. Nishinaka, K. Kametani, Y. Masuda, M. Tanigaki and S. Fujita
第24回電子材料シンポジウム (EMS24) (メルパルク松山, 松山, 2006年7月4-6日), L2 (5日, Short Pre., 15:55-15:58, Poster, 17:10-18:50)

「超音波噴霧熱分解(UMHD-)CVD法」によるZnO透明薄膜の作製とその特性(2)」
川原村敏幸, 西中浩之, 亀谷圭介, 増田善男, 谷垣昌敬, 藤田静雄
第52回応用物理学関係連合講演会 (埼玉大学, 2005年3月29-4月1日), 薄膜新材料, 31a-E-3 (Oral, 31日 10:00-10:15)

- 2004年度 -

「超音波噴霧熱分解(UMHD-)CVD法によるZnO透明薄膜の作製とその特性」
川原村敏幸, 西中浩之, 亀谷圭介, 増田善男, 谷垣昌敬, 藤田静雄
第65回応用物理学会学術講演会 (東北学院大学泉キャンパス, 2004年9月1-4日), 合同セッションK, 1a-X-4 (Oral, 1日09:45-10:00)

国内学会発表リスト (計61報; Oral 計42報, Poster 計19報, + 未集計有り)

国内学会発表リスト　　　　(計61報; Oral 計42報, Poster 計19報, + 未集計有り)